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科研设备

高分辨X射线衍射仪

来源: 发布时间:2023-06-14 18:04:41 浏览次数: 【字体:

高分辨X射线衍射仪


仪器名称 高分辨X射线衍射仪 状态【运行】 e9526325b7c243e589ed6391957458fc.jpg
英文名称 High Resolution X-ray Diffractometer
规格/型号 荷兰 帕纳科 锐影/荷兰 帕纳科 锐影
生产厂商
国别 中国
性能指标

X射线发生器和机柜:

(1) 管压 60kV,1mV/步, 机柜同步数字显示
(2) 管流 60mA,1mA/步,机柜同步数字显示
(3) 2θ转动范围:-111°~168°;可读最小步长:≤0.0001°,角度重现性:0.0001。
(4) 2θ测量精度:2θ±0.01度(标准样品硅粉测定)
(10) 最小可控步长: 0.0001 度,可以停止在任何规定角度,
二维半导体阵列探测器:
(1) 子探测器个数:≥65000,支持固定模式扫描以及原位分析。
(2) 计数矩阵:256x256 pixcel,
(3) 像素大小:55?mx55?m,
多轴欧拉样品台(Chi-Phi-X-Y-Z)
(1) 面内扫描(In-plane附件)模块:可以进行薄膜面内扫描测量。
(2) 高分辨模块:进行半导体外延分析包括欧拉样品台,高强度高分辨K?1单色器,可以进行Rocking Curve和倒易空间Mapping,包括:
1、高分辨、高强度衍射单色器系统:单色器发散度小于12秒。
2、Ge220 四晶单色器,
3 、高精度五轴欧拉样品台。
4 、倒易空间Mapping:摇摆曲线光路。
5 、外延分析软件。

主要应用
样品要求 1、金属样品如块状、板状、圆拄状要求磨成一个平面,面积不小于5X3毫米,如果面积太小可以用几块粘贴一起。 2、对于片状、圆拄状样品会存在严重的择优取向,衍射强度异常。因此要求测试时合理选择响应的方向平面。 3、对于测量金属样品的微观应力(晶格畸变),测量残余奥氏体,要求样品不能简单粗磨,要求制备成金相样品,并进行普通抛光或电解抛光,消除表面应变层。 4、粉末样品要求磨成320目以下的粒度,约40微米。粒度粗大衍射强度底,峰形不好,分辨率低。要了解样品的物理化学性质,如是否易燃,易潮解,易腐蚀、有毒、易挥发。 5、粉末样品要求在3克左右,如果太少也需5毫克。 6、样品可以是金属、非金属、有机、无机材料粉末。



终审:安徽省陶铝新材料产业共性技术研究中心
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